[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置有效
申请号: | 201811090259.4 | 申请日: | 2018-09-18 |
公开(公告)号: | CN109309112B | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
发明(设计)人: | 侯文军 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置,涉及显示技术领域,能够解决现有技术中对不同亚像素中的发光功能膜层厚度要求不同的需求;该阵列基板包括设置于衬底基板上的像素定义层,在像素定义层中形成有阵列排布的多个亚像素开口,像素定义层在相邻亚像素开口之间的部分形成为挡墙,像素定义层包括:沿背离衬底基板方向上依次设置的主体定义层和疏液修饰层;在挡墙位置处,疏液修饰层未完全覆盖主体定义层背离衬底基板一侧的表面、且疏液修饰层的边缘到主体定义层的边缘的距离根据亚像素开口内形成的发光功能膜层的厚度不同而不同。 | ||
搜索关键词: | 一种 阵列 及其 制作方法 显示 面板 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种阵列基板,包括设置于衬底基板上的像素定义层,在所述像素定义层中形成有阵列排布的多个亚像素开口,所述像素定义层在相邻亚像素开口之间的部分形成为挡墙,其特征在于,所述像素定义层包括:沿背离所述衬底基板方向上依次设置的主体定义层和疏液修饰层;在所述挡墙位置处,所述疏液修饰层未完全覆盖所述主体定义层背离所述衬底基板一侧的表面、且所述疏液修饰层的边缘到所述主体定义层的边缘的距离根据所述亚像素开口内形成的发光功能膜层的厚度不同而不同。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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