[发明专利]直下式背光源及显示装置有效

专利信息
申请号: 201811093001.X 申请日: 2018-09-19
公开(公告)号: CN108957861B 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 高露;张冰;高亮;揭景斌;汤海 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 杨广宇
地址: 230012 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种直下式背光源及显示装置,属于显示技术领域。包括:发光模组和位于发光模组的出光侧的透镜膜层;发光模组包括衬底基板以及阵列排布在衬底基板上的多个发光单元,透镜膜层远离衬底基板的一面设置有阵列排布的多个准直结构,准直结构包括至少一个凸曲面结构。本发明提供的直下式背光源中包括由至少一个凸曲面结构组成的准直结构,准直结构能够使从透镜膜层出射的光线发生汇聚,减小出射光线的发散角度,进而减小直下式背光源的出射光线的发散角度,使得该直下式背光源能够应用于具有窄视角需求的显示产品。
搜索关键词: 直下式 背光源 显示装置
【主权项】:
1.一种直下式背光源,其特征在于,包括:发光模组和位于所述发光模组的出光侧的透镜膜层;所述发光模组包括衬底基板以及阵列排布在所述衬底基板上的多个发光单元,所述透镜膜层远离所述衬底基板的一面设置有阵列排布的多个准直结构,所述准直结构包括至少一个凸曲面结构;其中,所述多个准直结构与所述多个发光单元一一对应,且所述准直结构在所述衬底基板上的正投影覆盖对应的发光单元在所述衬底基板上的正投影。
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