[发明专利]浸润式曝光机装置及曝光方法在审
| 申请号： | 201811093184.5 | 申请日： | 2018-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN110908246A | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | 陈琦南 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 佟婷婷 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种浸润式曝光机装置以及改善气泡缺陷的浸润式曝光机装置的曝光方法，浸润式曝光机装置包括：晶圆载台，用于承载待曝光晶圆；浸润液形成装置，设置于待曝光晶圆上方，用于形成浸润液流场，其中，曝光光源经由浸润液流场实现对待曝光晶圆的曝光；以及边缘限液装置，设置于晶圆载台上，且边缘限液装置位于待曝光晶圆的外围，并与待曝光晶圆的外缘之间具有间距。通过上述方案，本发明通过浸润液限流装置的设置，改善了待曝光晶圆周围的环境，从而减小了晶圆边缘的空隙，减小形成气泡的大小，进而减小气泡上升的速度，从而使得晶圆在曝光的过程中，气泡不会随水流进入曝光光路中，防止气泡对待曝光晶圆曝光质量的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 浸润 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
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