[发明专利]使用间隔体击穿的反熔丝元件有效

专利信息
申请号: 201811093402.5 申请日: 2014-03-24
公开(公告)号: CN109326581B 公开(公告)日: 2023-01-10
发明(设计)人: T·张;C-H·简;W·M·哈菲兹 申请(专利权)人: 太浩研究有限公司
主分类号: H01L23/62 分类号: H01L23/62;H01L23/525;H01L27/102;G11C11/00;G11C17/14;G11C17/16
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 王勇
地址: 爱尔兰*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了用于有效地实现可编程存储器阵列电路架构的技术和电路,该架构包括非易失性和易失性存储器两者。存储器电路采用反熔丝方案,该反熔丝方案包括1T位单元的阵列,其中,每个位单元有效地包含一个栅极或类晶体管器件,该类晶体管器件为该位单元提供反熔丝元件和选择器器件两者。具体来说,位单元器件具有非对称的基于沟槽的源极/漏极接触部,以使得一个接触部结合间隔体和栅极金属形成电容器,并且另一个接触部结合掺杂的扩散区和栅极金属形成二极管。电容器用作位单元的反熔丝元件,并且可以通过击穿间隔体来进行编程。二极管有效地提供了肖特基结,该肖特基结用作可以消除来自共享相同位线/字线的位单元的编程和读取干扰的选择器器件。
搜索关键词: 使用 间隔 击穿 反熔丝 元件
【主权项】:
1.一种集成电路,包括:主体,所述主体包括半导体材料;第一间隔体和第二间隔体,所述第一间隔体和所述第二间隔体包括一种或者多种电介质,所述第一间隔体或所述第二间隔体中的至少一个位于所述主体之上;栅极结构,所述栅极结构包括一种或多种金属,所述栅极结构位于所述第一间隔体和所述第二间隔体之间,所述栅极结构位于所述主体的至少一部分之上;第一接触结构,所述第一接触结构包括一种或多种金属,所述第一接触结构与所述第一间隔体相邻,所述第一接触结构不与所述半导体材料直接接触;以及第二接触结构,所述第二接触结构包括一种或多种金属,所述第二接触结构与所述第二间隔体相邻,所述第二接触结构与所述半导体材料直接接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于太浩研究有限公司,未经太浩研究有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811093402.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top