[发明专利]使用间隔体击穿的反熔丝元件有效
申请号: | 201811093402.5 | 申请日: | 2014-03-24 |
公开(公告)号: | CN109326581B | 公开(公告)日: | 2023-01-10 |
发明(设计)人: | T·张;C-H·简;W·M·哈菲兹 | 申请(专利权)人: | 太浩研究有限公司 |
主分类号: | H01L23/62 | 分类号: | H01L23/62;H01L23/525;H01L27/102;G11C11/00;G11C17/14;G11C17/16 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇 |
地址: | 爱尔兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了用于有效地实现可编程存储器阵列电路架构的技术和电路,该架构包括非易失性和易失性存储器两者。存储器电路采用反熔丝方案,该反熔丝方案包括1T位单元的阵列,其中,每个位单元有效地包含一个栅极或类晶体管器件,该类晶体管器件为该位单元提供反熔丝元件和选择器器件两者。具体来说,位单元器件具有非对称的基于沟槽的源极/漏极接触部,以使得一个接触部结合间隔体和栅极金属形成电容器,并且另一个接触部结合掺杂的扩散区和栅极金属形成二极管。电容器用作位单元的反熔丝元件,并且可以通过击穿间隔体来进行编程。二极管有效地提供了肖特基结,该肖特基结用作可以消除来自共享相同位线/字线的位单元的编程和读取干扰的选择器器件。 | ||
搜索关键词: | 使用 间隔 击穿 反熔丝 元件 | ||
【主权项】:
1.一种集成电路,包括:主体,所述主体包括半导体材料;第一间隔体和第二间隔体,所述第一间隔体和所述第二间隔体包括一种或者多种电介质,所述第一间隔体或所述第二间隔体中的至少一个位于所述主体之上;栅极结构,所述栅极结构包括一种或多种金属,所述栅极结构位于所述第一间隔体和所述第二间隔体之间,所述栅极结构位于所述主体的至少一部分之上;第一接触结构,所述第一接触结构包括一种或多种金属,所述第一接触结构与所述第一间隔体相邻,所述第一接触结构不与所述半导体材料直接接触;以及第二接触结构,所述第二接触结构包括一种或多种金属,所述第二接触结构与所述第二间隔体相邻,所述第二接触结构与所述半导体材料直接接触。
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