[发明专利]一种聚吡咯/金属修饰Sn3O4纳米复合光催化材料的制备方法在审
| 申请号： | 201811093617.7 | 申请日： | 2018-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN109107614A | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 杨柳青;曹可生;白青;程国斌;侯延民;李青彬 | 申请（专利权）人： | 平顶山学院 |
| 主分类号： | B01J31/28 | 分类号： | B01J31/28;B01J35/02;B01D53/86;B01D53/72 |
| 代理公司： | 西安众和至成知识产权代理事务所(普通合伙) 61249 | 代理人： | 张震国 |
| 地址： | 467000 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明公开了聚吡咯/金属修饰Sn3O4纳米复合光催化材料的制备方法，该纳米复合材料是将金属修饰Sn3O4半导体异质结通过化学键络合的形式负载分散于聚吡咯而得到的复合光催化剂材料；金属修饰Sn3O4是将Pt、Au、Ag、Cu等具有等离子共振效应的单组分金属或多组分合金的金属纳米粒子分别负载于Sn3O4上。本发明利用Sn3O4的可见光光催化氧化还原特性、金属纳米粒子的等离子共振效应、聚吡咯的光传导和导电性以及不同组分之间具有化学键合的异质结结构，来充分提高其光催化反应中的光生电子‑空穴分离率，从而有利于提高其光催化氧化还原降解污染物和光催化分解水产氢的性能。同时，聚吡咯易塑型的特点能有效避免粉体材料的回收困难问题。 | ||
| 搜索关键词： | 聚吡咯 金属修饰 复合光催化材料 金属纳米粒子 等离子共振 制备 半导体异质结 复合光催化剂 纳米复合材料 导电性 化学键 空穴 光催化反应 光催化分解 光催化氧化 降解污染物 异质结结构 催化氧化 粉体材料 光生电子 化学键合 还原特性 困难问题 形式负载 组分合金 组分金属 光传导 络合 塑型 还原 水产 回收 | ||
【主权项】：
1.一种聚吡咯/金属修饰Sn3O4纳米复合光催化材料的制备方法，其特征在于包括以下步骤：1)取1mmol分析纯的辛酸亚锡(C16H30O4Sn)和0.6～4.7mmol的乙酸(CH3COOH)，充分溶解于2～17mL的无水乙醇中，之后依次加入4～18mmol的山梨酸钠、0.5～6mmol的植酸和10～26mL的去离子水，混合均匀得到溶液A；2)取0～0.2mmol分析纯的氯铂酸(H2PtCl6)、0～1mmol的氯金酸(HAuCl4)、0～9.0mmol的硝酸银(AgNO3)、0～10mmol的硝酸铜(Cu(NO3)2)和0.1～6.0mmol的乙酸(CH3COOH)充分溶解于7～15mL的去离子水中得到溶液B；3)将溶液B以30～60滴/分钟的速度逐滴加入溶液A中得到混合液C；4)将混合液C转移至聚四氟乙烯内衬的水热釜中，然后将水热釜放入恒温烘箱中在80～160℃保温24～48h，水热反应结束，冷却至室温得到含有金属修饰的Sn3O4异质结的混合液D；5)控制吡咯(C4H5N)和步骤1)中所用辛酸亚锡(C16H30O4Sn)的摩尔比为(0.01～0.1)：1，将吡咯(C4H5N)在密闭容器中充分溶解于无水乙醇中，得到溶液E，将混合液D缓慢加入溶液E中，用丁二酸溶液调节其pH值为1～3后迅速密封容器，磁力搅拌0.5～2h后将容器转移至‑20～0℃的低温恒温箱中，静置2～72h；6)反应结束后，将产物进行离心分离，并先后使用去离子水及无水乙醇各自洗涤，最后在30～70℃且真空度为10‑1～10‑3Pa的真空干燥箱中干燥，即得聚吡咯(Ppy)/金属修饰Sn3O4纳米复合光催化材料。
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