[发明专利]一种聚3;4-乙撑二氧噻吩/金属修饰Sn3O4纳米复合光催化材料的制备方法在审
申请号: | 201811093643.X | 申请日: | 2018-09-19 |
公开(公告)号: | CN109126886A | 公开(公告)日: | 2019-01-04 |
发明(设计)人: | 杨柳青 | 申请(专利权)人: | 平顶山学院 |
主分类号: | B01J31/28 | 分类号: | B01J31/28;B01J35/02;B01D53/86;B01D53/72 |
代理公司: | 西安众和至成知识产权代理事务所(普通合伙) 61249 | 代理人: | 张震国 |
地址: | 467000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 一种聚3,4‑乙撑二氧噻吩/金属修饰Sn3O4纳米复合光催化材料的制备方法,本发明是将金属修饰Sn3O4半导体异质结通过化学键络合的形式负载分散于聚3‑己基噻吩而得到的复合光催化剂材料。本发明利用Sn3O4的可见光光催化氧化还原特性、金属纳米粒子的等离子共振效应、聚3,4‑乙撑二氧噻吩的导电性以及三个组分之间具有化学键合的异质结结构,来充分提高其光催化反应中的光生电子‑空穴分离率,从而有利于提高其光催化氧化还原降解污染物和光催化分解水产氢的性能。同时,种聚3‑己基噻吩易塑型的特点能有效避免粉体材料的回收困难问题。 | ||
搜索关键词: | 乙撑二氧噻吩 金属修饰 复合光催化材料 己基噻吩 制备 空穴 半导体异质结 复合光催化剂 金属纳米粒子 导电性 化学键 等离子共振 光催化反应 光催化分解 光催化氧化 降解污染物 异质结结构 催化氧化 粉体材料 光生电子 化学键合 还原特性 困难问题 形式负载 络合 塑型 还原 水产 回收 | ||
【主权项】:
1.一种聚3,4‑乙撑二氧噻吩/金属修饰Sn3O4纳米复合光催化材料的制备方法,其特征在于包括以下步骤:1)取1mmol分析纯的乙酸亚锡(C4H6O4Sn)和0.8~1.6mmol的乙酸(CH3COOH)充分溶解于2~12mL的无水乙醇中,之后依次加入0.5~9mmol的抗坏血酸棕榈酸酯(C22H38O7)、0.5~6mmol的植酸和13~23mL的去离子水完全溶解后得到溶液A;2)取0~0.6mmol分析纯的氯铂酸(H2PtCl6)、0~1mmol的氯金酸(HAuCl4)、0~9.0mmol的硝酸银(AgNO3)、0~10mmol的硝酸铜(Cu(NO3)2)和0.1~6.0mmol的乙酸(CH3COOH)充分溶解于7~15mL的去离子水混合均匀得到溶液B;3)将溶液B以30~60滴/分钟的速度逐滴加入溶液A中得到混合液C;4)将溶液C转移至聚四氟乙烯内衬的水热釜中,然后将反应釜放入恒温烘箱中于120~200℃保温24~48h,水热反应结束,冷却至室温得到含有金属修饰的Sn3O4异质结的混合液D;5)控制3,4‑乙撑二氧噻吩(EDOT)和步骤1)中所用乙酸亚锡(C4H6O4Sn)的摩尔比为(0.01~0.1):1,将3,4‑乙撑二氧噻吩(EDOT)在密闭容器中充分溶解于100~220ml无水乙醇、PSS和DMSO的混合溶液中得到溶液E,其中混合溶液中无水乙醇、PSS和DMSO的体积比为1:(0.22~1.1):(0.37~1.6),将混合液D缓慢加入溶液E中,用丙酸溶液调节其pH值为3~5后迅速密封容器,磁力搅拌0.5~2h后将容器转移至‑10~10℃的低温恒温箱中,静置2~48h;6)待反应结束且自然冷却至室温,将产物进行离心分离,并先后使用去离子水及无水乙醇各自洗涤后在30~70℃且真空度为10‑1~10‑3Pa的真空干燥箱中干燥得到聚3,4‑乙撑二氧噻吩(PEDOT)/金属修饰Sn3O4纳米复合光催化材料。
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