[发明专利]感放射线性树脂组合物、半导体元件、显示装置、硬化膜及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201811098959.8 申请日: 2018-09-20
公开(公告)号: CN109581812A 公开(公告)日: 2019-04-05
发明(设计)人: 成子朗人;浅冈高英;松本晃幸;工藤和生 申请(专利权)人: JSR株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 彭雪瑞;臧建明
地址: 日本东京*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种可使放射线感度与所谓的PCD裕度、PED裕度特性并存的感放射线性树脂组合物、半导体元件、显示装置、硬化膜及其制造方法。所述感放射线性树脂组合物,包含:聚合体成分(A),在相同或不同的聚合体中具有含有芳香环与直接键结于所述芳香环上的烷氧基硅烷基的结构单元(I)及含有酸性基的结构单元(II)(其中,源自芳香族不饱和羧酸及含羟基氟化烷基的单体的结构单元除外);感放射线性化合物(B);以及有机溶媒(G)。
搜索关键词: 感放射线性树脂组合物 半导体元件 显示装置 芳香环 聚合体 硬化膜 裕度 烷氧基硅烷基 不饱和羧酸 感放射线性 氟化烷基 有机溶媒 芳香族 放射线 酸性基 直接键 感度 羟基 制造
【主权项】:
1.一种感放射线性树脂组合物,其特征在于,包含:聚合体成分(A),在相同或不同的聚合体中具有含有芳香环与直接键结于所述芳香环上的烷氧基硅烷基的结构单元(I)及含有酸性基的结构单元(II),其中,源自芳香族不饱和羧酸及含羟基氟化烷基的单体的结构单元除外;感放射线性化合物(B);以及有机溶媒(G)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JSR株式会社,未经JSR株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811098959.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top