[发明专利]一种蚀刻液组合物及其氮化钽薄膜的湿法刻蚀方法在审
| 申请号： | 201811099131.4 | 申请日： | 2018-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN109111925A | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 王进 | 申请（专利权）人： | 绵阳致知高新科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06;H01L21/311 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 621052 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蚀刻液组合物及其氮化钽薄膜的湿法刻蚀方法，所述的蚀刻液组合主要为氢氟酸、十二烷基氨基丙酸、邻二氮菲和水组成的混合物。与现有技术相比，本发明提出一种针对氮化钽薄膜的蚀刻组合物，用于氮化钽薄膜的蚀刻时，能够提高并控制蚀刻速度，并且有效抑制了光刻胶层的劣化，其结果是能够得到表面平坦光滑的蚀刻面。突破现有干法刻蚀技术壁垒，研发出了薄膜电阻领域中氮化钽薄膜的湿法刻蚀技术。推进氮化钽薄膜电阻的市场化应用，为国家电子信息技术的快速发展贡献一份力量。 | ||
| 搜索关键词： | 氮化钽薄膜 蚀刻 蚀刻液组合物 湿法刻蚀 氮化钽薄膜电阻 电子信息技术 干法刻蚀技术 湿法刻蚀技术 蚀刻组合物 氨基丙酸 薄膜电阻 表面平坦 光刻胶层 邻二氮菲 十二烷基 有效抑制 混合物 氢氟酸 蚀刻面 蚀刻液 劣化 光滑 壁垒 应用 力量 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液组合物，其特征在于：所述的蚀刻液组合主要为氢氟酸、十二烷基氨基丙酸、邻二氮菲和水组成的混合物。
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