[发明专利]光学邻近校正（OPC）方法及使用该OPC方法制造掩模的方法

摘要

本发明提供了可以有效控制拐角圆滑的光学邻近校正(OPC)，以及使用所述OPC方法执行的掩模制造方法。根据所述OPC方法，通过布局的分解生成内部边缘，并基于所述内部边缘计算内部片段的位移(DISin_frag)和所选中的片段的位移(DISsel)以额外地移位片段，以便在不违反掩模规则检查(MRC)的情况下制造具有最小拐角圆滑的掩模布局。

主权项

1.一种光学邻近校正(OPC)方法，包括：将目标图案的布局的边缘划分成片段；通过将包括片段的掩模数据输入到OPC模型来通过仿真提取目标图案的轮廓；计算所述轮廓与所述目标图案的边缘之间的差值作为片段中的每一个的边缘放置误差(EPE)；确定是否执行提取所述目标图案的轮廓；当要执行提取所述目标图案的轮廓时，通过将EPE乘以设定的反馈因子来确定片段的位移；以及通过所述位移来移位片段，其中，所述OPC方法继续进行以使用被移位的片段来提取目标图案的轮廓，其中，将所述目标图案的布局的边缘划分为片段包括对所述目标图案的布局进行分解以形成内部边缘，并且所述布局的所述边缘包括分解布局之前的外部边缘和内部边缘，并且所述片段包括用于所述外部边缘的外部片段和用于所述内部边缘的内部片段。