[发明专利]一种基于钛掺杂石墨烯量子点的氧化镓的紫外探测器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811101012.8 申请日: 2018-09-20
公开(公告)号: CN109449241A 公开(公告)日: 2019-03-08
发明(设计)人: 沈荣存 申请(专利权)人: 南京同溧晶体材料研究院有限公司
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 南京中律知识产权代理事务所(普通合伙) 32341 代理人: 沈振涛
地址: 210000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于半导体光电器件技术领域,具体涉及一种基于钛掺杂石墨烯量子点的氧化镓的紫外探测器件及其制备方法,所述基于钛掺杂石墨烯量子点的氧化镓的紫外探测器件在蓝宝石上设置GaN缓冲层,然后设置厚度为4~6um的GaN/掺杂氧化镓/n型AlGaN超晶格吸收层,结晶质量极高,非常适合做各种极端环境下的深紫外探测器。
搜索关键词: 氧化镓 紫外探测器件 量子点 石墨烯 钛掺杂 制备 半导体光电器件 深紫外探测器 极端环境 蓝宝石 超晶格 吸收层 掺杂
【主权项】:
1.一种基于钛掺杂石墨烯量子点的氧化镓的紫外探测器件,自下而上依次包括:透明导电衬底,GaN缓冲层,GaN/掺杂氧化镓/n型AlGaN超晶格吸收层,导电电极;所述GaN/掺杂氧化镓/n型AlGaN超晶格吸收层包括多个周期性交替生长的n型GaN层、掺杂氧化镓层和n型AlGaN层,所述GaN/掺杂氧化镓/n型AlGaN超晶格吸收层中各单层的厚度为10~100nm;所述掺杂氧化镓为钛掺杂石墨烯量子点的氧化镓,所述钛掺杂石墨烯量子点的氧化镓包括β‑Ga2O3基质材料,掺杂质量分数0.005%~0.03%的钛掺杂石墨烯量子点。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京同溧晶体材料研究院有限公司,未经南京同溧晶体材料研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811101012.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top