[发明专利]二维钴配合物合成及作为光降解催化剂、铁电材料的应用

摘要

本发明提供一种钴配合物制备及其在光降解催化剂、铁电材料的应用。所述配合物的分子式为[Co5(OH‑BDC)4(TMIB)4(NO3)2(DMA)2·2H2O]n，其中，OH‑H2BDC＝5‑羟基间苯二甲酸，TMIB＝1，3，5‑三(2‑甲基‑1‑咪唑基)苯。所述钴配合物为Co2+通过OH‑BDC2‑、TMIB配体自组装而成二维网状结构。该钴配合物具有高效催化光降解染料性质：90分钟内亚甲基蓝基本降解完全，且易分离并可多次循环使用。此外该钴配合物具有优异的铁电性质：当外加电场1100V时，其剩余极化Pr为1.751μC/cm2，矫顽场Ec为654V/cm，饱和极化Ps为1.991μC/cm2，有望成为新型铁电材料在信息存储领域有广阔的应用前景。