[发明专利]一种Au-Pd双金属薄膜修饰电极在审
| 申请号： | 201811104536.2 | 申请日： | 2018-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN110927227A | 公开（公告）日： | 2020-03-27 |
| 发明（设计）人： | 邵万均 | 申请（专利权）人： | 邵万均 |
| 主分类号： | G01N27/30 | 分类号： | G01N27/30;G01N27/48 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 210000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明公开了一种Au‑Pd双金属薄膜修饰电极，该Au‑Pd双金属薄膜修饰电极的制备方法包括：1)将玻碳电极置于HCl和PdCl |
||
| 搜索关键词： | 一种 au pd 双金属 薄膜 修饰 电极 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于邵万均，未经邵万均许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811104536.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种APU顶升装置
- 下一篇：一种自组装膜修饰电极的制备方法
