[发明专利]一种物镜畸变和场曲的测试装置及方法、光刻设备有效
| 申请号： | 201811106723.4 | 申请日： | 2018-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN110941144B | 公开（公告）日： | 2021-01-15 |
| 发明（设计）人： | 丁功明;韩春燕;李术新 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种物镜畸变和场曲的测试装置及方法、光刻设备。所述物镜畸变和场曲的测试装置包括照明系统、掩膜版、掩膜版台、物镜、对准模块和工件台，其中，掩膜版包括四个标记组合，每个标记组合包括多个标记，对准模块包括分别与四个标记组合一一对应的四个传感器单元，各传感器单元均包括一个像传感器和两个对准标记，在X方向或Y方向上，两个对准标记的间距P与对应标记组合中相邻标记的间距Q存在Q＝mP+δ的关系，各传感器单元中的对准标记的形状与对应标记组合中的标记形状相同，尺寸为对应标记组合中的标记的尺寸的m倍。本实施例提供的技术方案，实现了物镜畸变和场曲的同装置测量，测试简便，无资源浪费，降低了测试环境对测试结果的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 物镜 畸变 测试 装置 方法 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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