[发明专利]一种光学系统热分析方法及系统有效
| 申请号： | 201811113853.0 | 申请日： | 2018-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN109165468B | 公开（公告）日： | 2023-01-20 |
| 发明（设计）人： | 刘家国;李婷;曾克思;张进 | 申请（专利权）人： | 北京环境特性研究所 |
| 主分类号： | G06F30/23 | 分类号： | G06F30/23;G06F119/08 |
| 代理公司： | 北京格允知识产权代理有限公司 11609 | 代理人： | 周娇娇 |
| 地址： | 100854*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学系统热分析方法及系统，其中方法包括：建立待分析光学系统的有限元模型，对有限元模型进行热变形分析；从热变形分析的结果中提取至少一部分相邻两个光学表面与光轴的交点沿光轴方向的间隔变化量，并基于该间隔变化量计算等效热膨胀系数，作为这两个光学表面之间的热膨胀系数；将待分析光学系统的光路展开为同轴光学系统，并基于所有相邻两个光学表面之间的热膨胀系数，利用光学软件的热分析功能进行高低温条件下的成像质量分析。本发明只需对光学表面顶点沿光轴方向的位移进行简单计算，并基于光学表面的间隔变化量计算等效热膨胀系数，从而输入光学软件进行热分析，大幅减小了分析工作量和难度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学系统 分析 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种光学系统热分析方法，其特征在于，所述方法包括：S1、建立待分析光学系统的有限元模型，对有限元模型进行热变形分析，其中所述待分析光学系统包括光学元件和结构件；S2、从热变形分析的结果中提取至少一部分相邻两个光学表面与光轴的交点沿光轴方向的间隔变化量，并基于该间隔变化量计算等效热膨胀系数，作为这两个光学表面之间的热膨胀系数；S3、将待分析光学系统的光路展开为同轴光学系统，并基于所有相邻两个光学表面之间的热膨胀系数，利用光学软件的热分析功能进行高低温条件下的成像质量分析。
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