[发明专利]多光源激光开槽工艺在审

专利信息
申请号: 201811115104.1 申请日: 2018-09-25
公开(公告)号: CN109396660A 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 金国根;沈黎艳;朱峰;余艳;孟毅;施俊;薛良 申请(专利权)人: 力成科技(苏州)有限公司
主分类号: B23K26/38 分类号: B23K26/38;H01L21/78
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 刘宪池
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种多光源激光开槽工艺,其涉及芯片封装技术领域。旨在解决使用高号数的切割刀片及低切割速度的方式,对低介电常数的晶圆切割时,不能完全克服晶粒崩边的状况,而且切割速度偏低,产出率低,设备的产能也降低,高号数刀片的寿命短,生产成本高的问题。其技术方案要点包括以下步骤:S100,使用四窄光束激光对晶圆切割道内的低介电材料进行切割,形成开槽;S200,沿着所述开槽,使用切刀对晶圆切割道内的硅衬底进行切割。本发明能够克服晶粒表面崩边的状况,并且在切割过程中使用正常的切割刀片和切割速度,设备产能和刀片寿命都得到了提高。
搜索关键词: 切割 晶圆切割道 激光开槽 切割刀片 号数 多光源 崩边 开槽 技术方案要点 芯片封装技术 低介电材料 低介电常数 晶粒 刀片寿命 晶粒表面 晶圆切割 切割过程 设备产能 产出率 硅衬底 窄光束 刀片 产能 切刀 生产成本 激光
【主权项】:
1.一种多光源激光开槽工艺,其特征在于:包括以下步骤:S100,使用四窄光束激光对晶圆切割道内的低介电材料进行切割,形成开槽;S200,沿着所述开槽,使用切刀对晶圆切割道内的硅衬底进行切割。
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