[发明专利]发光器件微区光度和色度学参数的测量方法及其测量装置有效
申请号: | 201811119101.5 | 申请日: | 2018-09-25 |
公开(公告)号: | CN109186946B | 公开(公告)日: | 2019-11-08 |
发明(设计)人: | 吕毅军;郑莉莉;阮育娇;高玉琳;周萍;朱丽虹;郭自泉;林岳;陈国龙;陈忠 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | G01M11/00 | 分类号: | G01M11/00 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 | 代理人: | 张素斌 |
地址: | 361005 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 发光器件微区光度和色度学参数的测量方法及其测量装置,涉及发光器件光度和色度学参数测量领域。发光器件微区光度和色度学参数的测量装置包括辐亮度光源校准系统和显微高光谱成像测试系统,辐亮度光源校准系统包括光谱仪、光谱辐亮度探头、积分球和卤钨灯光源;所述显微高光谱成像测试系统包括高光谱成像仪、显微镜、控温电源和驱动电源;首先获取均匀发光平面的光谱辐亮度分布校准文件,然后校准显微高光谱成像测试系统,最后测试并计算待测样品的光度和色度参数;本发明可解决发光器件或微显示阵列的二维表面光度、色度学及均匀性测量分析问题,快速全面检测器件发光质量。 | ||
搜索关键词: | 光度 发光器件 色度学参数 显微高光谱成像 测量装置 测试系统 微区 光谱辐亮度 光源校准 测量 高光谱成像仪 均匀性测量 卤钨灯光源 光谱仪 测量领域 待测样品 二维表面 均匀发光 驱动电源 全面检测 色度参数 校准文件 积分球 平面的 色度学 微显示 校准 控温 探头 显微镜 电源 发光 测试 分析 | ||
【主权项】:
1.发光器件微区光度和色度学参数的测量方法,其特征在于:所述测量方法采用的测量装置包括辐亮度光源校准系统和显微高光谱成像测试系统;所述辐亮度光源校准系统包括计算机、光谱仪、光谱辐亮度探头、积分球和卤钨灯光源;所述卤钨灯光源通过光纤连接积分球;所述光谱辐亮度探头位于积分球的正面,且光谱辐亮度探头与光谱仪通过光纤连接;所述计算机与光谱仪连接;所述显微高光谱成像测试系统包括计算机、高光谱成像仪、显微镜、控温热沉、控温电源和驱动电源;驱动电源连接待测的样品;控温电源与控温热沉连接,样品置于控温热沉上;显微镜设于样品上方;高光谱成像仪设于显微镜的上方并与显微镜连接;计算机连接高光谱成像仪;所述测量方法包括以下步骤:步骤1、获取均匀发光平面的光谱辐亮度分布校准文件;首先打开卤钨灯光源,卤钨灯光源提供可见光波段连续波长的光谱数据,然后通过光纤将卤钨灯光源的光引入一个拥有采样平面的积分球里,待发光稳定后,光源在积分球的出光口形成稳定的均匀发光平面,最后光谱辐亮度探头采集均匀发光平面并通过光纤将光导入光谱仪,进而得到均匀发光平面的光谱辐亮度分布RS(λ);步骤2、校准显微高光谱成像测试系统;首先将积分球的出光口朝上放置在显微镜的载物台上,调整焦距使得镜头聚焦在出光口平面上,采集暗电流下的视野内每一点光谱D0(λ),然后点亮卤钨灯光源至发光稳定,调整合适的曝光时间t0,并采集出光口平面上的每个像素点的光谱P0(λ),最后利用步骤1获取的光谱辐亮度分布RS(λ),得到每一像素点光谱辐亮度校正曲线C(λ);整个视野所有像素点的光谱辐亮度校正曲线为一个三维矩阵M(x,y,C(λ)),其中x、y为高光谱成像测试系统成像维像素点的横纵坐标;对显微镜的不同放大倍数,需分别测试光谱辐亮度校正曲线三维矩阵M(x,y,C(λ));步骤3、测试并计算待测样品的光度和色度参数;首先调节显微高光谱成像测试系统,采集所拍摄区域内的每一像素点数据,然后调用对应实验条件下的步骤2获得的光谱辐亮度校正数据M(x,y,C(λ))进行光谱校正,单个像素点辐亮度光谱的计算公式如下:其中,P(λ)为待测样品的光子数光谱,D(λ)为暗电流光子数光谱,t为曝光时间,L(λ)为亮度校正后的辐亮度光谱。
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