[发明专利]一种堆叠式图像传感器像素结构与制备方法有效
申请号: | 201811123344.6 | 申请日: | 2018-09-26 |
公开(公告)号: | CN109360834B | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 李琛;段杰斌 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路研发中心有限公司;成都微光集电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;陈慧弘 |
地址: | 201210 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种堆叠式图像传感器像素结构与制备方法,采用键合方式将第一硅片~第三硅片上下堆叠在一起;其中,在位于中层的第一硅片上设有第一感光二极管阵列,在位于上层的第二硅片上设有第二感光二极管阵列,第二感光二极管阵列中各第二感光二极管的表面与对应的第一感光二极管阵列中各第一感光二极管的表面对准键合,使形成的堆叠式图像传感器芯片具有非常深的结深,特别适用于近红外感光,能在近红外波段有效提升量子效率;且可利用背照工艺,使得照射到感光二极管的入射光不受金属互连影响,灵敏度较高,填充因子较高,特别是对于小尺寸像元来说具有非常好的感光性能,从而既兼顾了近红外量子效率,也兼顾了小像素尺寸。 | ||
搜索关键词: | 一种 堆叠 图像传感器 像素 结构 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种堆叠式图像传感器像素结构,其特征在于,包括:一第一硅片,其包括:位于上层的第一感光二极管阵列及控制晶体管;位于下层的金属互连层;一第二硅片,其包括:第二感光二极管阵列;所述第二硅片与第一硅片上下堆叠并相键合;其中,所述第一硅片、第二硅片分别为体硅硅片;所述第一感光二极管阵列中各第一感光二极管的上表面露出于第一硅片的上表面并与其相平齐,所述第二感光二极管阵列中各第二感光二极管的上表面和下表面分别露出于第二硅片的上表面和下表面并与其相平齐,每一第一感光二极管的上表面与一对应的第二感光二极管的下表面对准并相键合,所述第一硅片上各第一感光二极管以外的上表面与对应的第二硅片上各第二感光二极管以外的下表面对准并相键合。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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