[发明专利]光处理装置及光处理方法在审
| 申请号： | 201811124879.5 | 申请日： | 2018-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN110947020A | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 今村笃史;后藤一浩;藤次英树 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号： | A61L9/20 | 分类号： | A61L9/20;A61L2/10;A61L101/10 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 高培培;车文 |
| 地址： | 日本国东京*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种光处理装置及光处理方法，实现比过去在杀菌除臭能力上更优的光处理装置，具备：机壳；进气口，将含氧的被处理气体导入所述机壳内；准分子灯，配置于机壳内包括封入了含Xe的放电用气体的石英玻璃制成的管体，并射出主发光波长为172nm的第一光和在波长250nm以上560nm以下的波长范围的至少一部分显示强度的第二光；排气口，将通过对向机壳内导入的被处理气体照射从准分子灯射出的第一光而生成的含臭氧的处理后气体放出；及光催化剂，配置于从准分子灯射出的第二光能够入射的位置，含有能够由第二光激发的材料。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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