[发明专利]极紫外光辐射的光源及其产生方法、极紫外光微影系统有效
| 申请号： | 201811124986.8 | 申请日： | 2018-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN109581822B | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 杨基;陈思妤;简上杰;谢劼;傅中其;刘柏村;陈立锐;郑博中 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 黄艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开提供了极紫外光辐射的光源及其产生方法、极紫外光微影系统。提供了一种用于极紫外光辐射的光源。光源包括目标液滴产生器、激光产生器、测量装置、以及控制器。目标液滴产生器配置成提供目标液滴至源槽。激光产生器配置成根据控制信号，提供第一激光脉冲，以照射源槽中的目标液滴，进而产生作为极紫外光辐射的等离子体。测量装置配置成测量工艺参数，工艺参数包括源槽的温度、目标液滴的液滴位置、以及第一激光脉冲的光束尺寸以及焦点。控制器配置成根据至少两个工艺参数，提供控制信号。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外 光辐射 光源 及其 产生 方法 紫外光 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于极紫外光辐射的光源，包括：一目标液滴产生器，配置成提供多个目标液滴至一源槽；一激光产生器，配置成根据一控制信号，提供多个第一激光脉冲，以照射在该源槽中的所述目标液滴，进而产生作为该极紫外光辐射的一等离子体；一测量装置，配置成测量多个工艺参数，所述工艺参数包括该源槽的一温度、所述目标液滴的多个液滴位置、以及所述第一激光脉冲的多个光束尺寸以及多个焦点；以及一控制器，配置成根据至少两个所述工艺参数，提供该控制信号。
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