[发明专利]双向开关有效
申请号: | 201811133400.4 | 申请日: | 2015-07-23 |
公开(公告)号: | CN109360825B | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
发明(设计)人: | S·蒙纳德;D·阿利 | 申请(专利权)人: | 意法半导体(图尔)公司 |
主分类号: | H01L27/08 | 分类号: | H01L27/08;H01L29/08;H01L29/747;H01L23/528 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;董典红 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本申请涉及双向开关。提供一种形成在衬底中的双向开关,包括:反并联的第一主垂直晶闸管和第二主垂直晶闸管;第三辅助垂直晶闸管,具有与第一晶闸管的背表面层相同的背表面层;外围区域,围绕这些晶闸管,并且将背表面层连接至定位在衬底的另一侧的第三晶闸管的相同导电类型的中间层;金属化层,连接第一晶闸管和第二晶闸管的背表面;以及绝缘结构,定位在第三晶闸管的背表面层和金属化层之间,并且在第一晶闸管的外围下方延伸,这种结构包括:由绝缘材料制成的第一区域;以及由半导体材料制成的互补区域。 | ||
搜索关键词: | 双向 开关 | ||
【主权项】:
1.一种双向集成电路开关,包括:第一导电类型的半导体衬底,具有正表面和背表面;第一垂直晶闸管,包括阳极,所述阳极由所述衬底的在所述背表面处的具有第二导电类型的第一区域形成;第二垂直晶闸管,包括阴极,所述阴极由所述衬底的在所述背表面处的具有所述第一导电类型的第二区域形成,所述第二区域被形成在所述第一区域中;控制电路器件,形成在所述半导体衬底中,并且耦合到所述第一垂直晶闸管和所述第二垂直晶闸管;所述衬底的第三区域,所述第三区域在所述背表面处的具有所述第一导电类型,通过所述第一区域的一部分而与所述第二区域分离,所述第三区域被形成在所述第一区域中;绝缘材料,在不与所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域对应的位置处涂覆所述半导体衬底的所述背表面;其中所述第二区域、所述第三区域和所述绝缘材料围绕所述第一区域;以及金属化层,所述金属化层在所述绝缘材料上,所述金属化层涂覆并接触在所述半导体衬底的所述背表面上的所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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