[发明专利]等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201811136456.5 | 申请日： | 2018-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN109585250B | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 西川和宏 | 申请（专利权）人： | 日本电产株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;于靖帅 |
| 地址： | 日本京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供等离子体处理装置，其具有：保持部，其保持工件；以及电极部，电极部至少在工件所具有的孔的内部与孔的内壁面的至少一部分在径向上对置。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理装置，其具有：保持部，其保持工件；以及电极部，该等离子体处理装置的特征在于，所述电极部至少在所述工件所具有的孔的内部与所述孔的内壁面的至少一部分在径向上对置。
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