[发明专利]一种实现辐照腔内非金属效应物内部场强聚焦的装置有效
| 申请号： | 201811137271.6 | 申请日： | 2018-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN109364377B | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 朱湘琴;陈昌华;杜太焦;胡龙;蔡利兵;郑奎松 | 申请（专利权）人： | 西北核技术研究所 |
| 主分类号： | G01N1/44 | 分类号： | G01N1/44 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 胡乐 |
| 地址： | 710024 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提出一种实现辐照腔内非金属效应物内部场强聚焦的装置，能够高效提升辐照腔内效应物场强的局部聚焦。该装置包括辐照腔和放置于辐照腔内的效应物，辐照腔具有上、下金属极板；效应物周围的辐照腔内局部区域填充有均匀介质，所述均匀介质的相对介电常数介于空气与效应物的相对介电常数之间；所述上、下金属极板之一具有弯折形成的尖端，该尖端靠近所述均匀介质并对应于效应物的聚焦位置。本发明的场强聚焦方式能够兼顾介质相对介电常数缓慢过渡、金属尖端处电流局部增强从而使得辐照腔内效应物内部的场实现了聚焦的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 实现 辐照 非金属 效应 内部 场强 聚焦 装置 | ||
【主权项】：
1.一种实现辐照腔内非金属效应物内部场强聚焦的装置，包括辐照腔和放置于辐照腔内的效应物，辐照腔具有上、下金属极板；其特征在于：效应物周围的辐照腔内局部区域填充有均匀介质，所述均匀介质的相对介电常数介于空气与效应物的相对介电常数之间；所述上、下金属极板之一具有弯折形成的尖端，该尖端靠近所述均匀介质并对应于效应物的聚焦位置。
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