[发明专利]液体槽在审
| 申请号： | 201811139642.4 | 申请日： | 2018-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN109148284A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 宋冬门;李君;夏余平;刘开源;王二伟 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L21/311 | 分类号： | H01L21/311;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 董琳 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 该发明涉及一种液体槽，其中，所述液体槽包括：槽体，用于盛放液体，所述槽体的底部设有若干进水口；设有若干通孔的流量均匀板，所述流量均匀板用于放置在所述槽体内，并将所述槽体所围成的空间沿所述槽体的深度方向分隔为上腔和下腔，待处理物体用于放置在所述上腔，所述进水口位于所述下腔。本发明的液体槽具有流量均匀板，通过设置在所述流量均匀板上的孔对穿过所述流量均匀板的液体进行分流，使得通过所述孔进入到上腔的液体被分流成更多股，更多股的液体对上腔内存放的液体进行推动、搅拌，因此具有更好的推动效果，能够使液体槽中的液体中各种离子均匀分布。 | ||
| 搜索关键词： | 均匀板 液体槽 槽体 上腔 进水口 多股 下腔 分流 分隔 盛放 通孔 离子 体内 穿过 | ||
【主权项】：
1.一种液体槽，其特征在于，包括：槽体，用于盛放液体，所述槽体的底部设有若干进水口；设有若干通孔的流量均匀板，所述流量均匀板用于放置在所述槽体内，并将所述槽体所围成的空间沿所述槽体的深度方向分隔为上腔和下腔，待处理物体用于放置在所述上腔，所述进水口位于所述下腔。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
