[发明专利]InGaAs-InP基异质结光电晶体管在审

专利信息
申请号: 201811140121.0 申请日: 2018-09-28
公开(公告)号: CN109309141A 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: 陈俊;张军喜 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: H01L31/11 分类号: H01L31/11;H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 代理人: 殷海霞;杨慧林
地址: 215000 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种InGaAs‑InP基异质结光电晶体管,包括衬底、生长在衬底上的发射区、生长在发射区上的基区、生长在基区上的集电区,其特征在于:所述发射区为P型InP,所述基区为N型InGaAs,所述集电区为P型InGaAs,通过调整所述发射区、基区、集电区的厚度和掺杂浓度来优化所述光电晶体管的工作电压和光响应度。本发明的InGaAs‑InP基异质结光电晶体管,能够探测波长1550nm的红外光,且在0.5V工作电压、20μW/cm2的入射光功率下光响应度能够达到378A/W。
搜索关键词: 光电晶体管 发射区 基区 集电区 工作电压 光响应度 异质结 衬底 生长 红外光 入射光功率 探测波长 基异 掺杂 优化
【主权项】:
1.一种InGaAs‑InP基异质结光电晶体管,包括衬底、生长在衬底上的发射区、生长在发射区上的基区、生长在基区上的集电区,其特征在于:所述发射区为P型InP,所述基区为N型InGaAs,所述集电区为P型InGaAs,通过调整所述发射区、基区、集电区的厚度和掺杂浓度来优化所述光电晶体管的光响应度。
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