[发明专利]InGaAs-InP基异质结光电晶体管在审
申请号: | 201811140121.0 | 申请日: | 2018-09-28 |
公开(公告)号: | CN109309141A | 公开(公告)日: | 2019-02-05 |
发明(设计)人: | 陈俊;张军喜 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | H01L31/11 | 分类号: | H01L31/11;H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 殷海霞;杨慧林 |
地址: | 215000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种InGaAs‑InP基异质结光电晶体管,包括衬底、生长在衬底上的发射区、生长在发射区上的基区、生长在基区上的集电区,其特征在于:所述发射区为P型InP,所述基区为N型InGaAs,所述集电区为P型InGaAs,通过调整所述发射区、基区、集电区的厚度和掺杂浓度来优化所述光电晶体管的工作电压和光响应度。本发明的InGaAs‑InP基异质结光电晶体管,能够探测波长1550nm的红外光,且在0.5V工作电压、20μW/cm2的入射光功率下光响应度能够达到378A/W。 | ||
搜索关键词: | 光电晶体管 发射区 基区 集电区 工作电压 光响应度 异质结 衬底 生长 红外光 入射光功率 探测波长 基异 掺杂 优化 | ||
【主权项】:
1.一种InGaAs‑InP基异质结光电晶体管,包括衬底、生长在衬底上的发射区、生长在发射区上的基区、生长在基区上的集电区,其特征在于:所述发射区为P型InP,所述基区为N型InGaAs,所述集电区为P型InGaAs,通过调整所述发射区、基区、集电区的厚度和掺杂浓度来优化所述光电晶体管的光响应度。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的