[发明专利]一种发光材料的位置调整方法及装置有效

专利信息
申请号: 201811141088.3 申请日: 2018-09-28
公开(公告)号: CN109285972B 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 黄炜赟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/50
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 莎日娜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种发光材料的位置调整方法及装置,涉及显示技术领域。本发明通过获取第一掩膜板上多个第一标记点的第一偏移位移,获取基板上对应的多个第二标记点的第二偏移位移,第二标记点是采用第一掩膜板在基板上形成发光材料时形成的,根据第一偏移位移和第二偏移位移,确定发光材料的形成位置的实际偏移位移,根据发光材料的形成位置的实际偏移位移,对发光材料的形成位置进行调整。通过第一掩膜板上的第一标记点和基板上的第二标记点的偏移位移,确定发光材料的形成位置的实际偏移位移,基于发光材料的形成位置的实际偏移位移,重新确定发光材料的蒸镀位置,以便下次蒸镀发光材料时,可以消除之前的偏移位移,从而改善混色不良。
搜索关键词: 一种 发光 材料 位置 调整 方法 装置
【主权项】:
1.一种发光材料的位置调整方法,其特征在于,包括:获取第一掩膜板上多个第一标记点的第一偏移位移;获取基板上对应的多个第二标记点的第二偏移位移;所述第二标记点是采用所述第一掩膜板在基板上形成发光材料时形成的;根据所述第一偏移位移和所述第二偏移位移,确定所述发光材料的形成位置的实际偏移位移;根据所述发光材料的形成位置的实际偏移位移,对所述发光材料的形成位置进行调整。
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