[发明专利]一种成像方法及装置有效
| 申请号： | 201811141097.2 | 申请日： | 2018-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN109389561B | 公开（公告）日： | 2020-09-18 |
| 发明（设计）人： | 余磊 | 申请（专利权）人： | 维沃移动通信有限公司 |
| 主分类号： | G06T5/00 | 分类号： | G06T5/00 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 莎日娜 |
| 地址： | 523860 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种成像方法及装置，涉及图像处理领域，所述方法包括：在第一深度图像指示存在第一高光溢出区域的情况下，设置所述成像模组的曝光参数为第二曝光参数，所述第一深度图像为以第一曝光参数对目标对象进行成像得到的深度图像；获取第二深度图像，根据所述第二深度图像对所述第一深度图像进行修复，所述第二深度图像为以第二曝光参数对目标对象进行成像得到的深度图像；根据修复后的所述第一深度图像对所述目标对象进行成像。存在第一高光区域的情况下，根据第二曝光参数对应的第二深度图像，对第一深度图像进行修复，根据修复后的第一深度图像成像，在高光溢出发生的情况下，可以得到质量较好的图像。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 成像 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种成像方法，应用于成像设备，所述成像设备包括成像模组，其特征在于，所述方法包括：在第一深度图像指示存在第一高光溢出区域的情况下，设置所述成像模组的曝光参数为第二曝光参数，所述第一深度图像为以第一曝光参数对目标对象进行成像得到的深度图像；获取第二深度图像，根据所述第二深度图像对所述第一深度图像进行修复，所述第二深度图像为以第二曝光参数对目标对象进行成像得到的深度图像；根据修复后的所述第一深度图像对所述目标对象进行成像。
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