[发明专利]提高曝光精度的方法以及装置有效
| 申请号： | 201811141189.0 | 申请日： | 2018-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN109143794B | 公开（公告）日： | 2021-01-01 |
| 发明（设计）人： | 桂宇畅 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种提高曝光精度的方法以及装置。在基板上形成曝光区域后，首先提取曝光区域中的曝光点，得到曝光点集合，然后检测曝光点集合中每个曝光点对应的曝光偏移值，得到曝光偏移值集合，接着基于曝光偏移值集合，修正每个曝光偏移值对应的曝光点。在本申请实施例中，基于曝光点的偏移值对曝光点进行修正，可以有效地提高曝光精度，从而提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 曝光 精度 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
1.一种提高曝光精度的方法，其特征在于，包括：在基板上形成曝光区域；提取所述曝光区域中的曝光点，得到曝光点集合；检测所述曝光点集合中每个曝光点对应的曝光偏移值，得到曝光偏移值集合；基于所述曝光偏移值集合，修正每个曝光偏移值对应的曝光点。
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