[发明专利]功率器件多场板的制备方法

摘要

本发明公开一种工艺流程简单、成本低、效率高且可保证加工精度的功率器件多场板的制备方法，与现有技术的区别是将光刻胶层逐次划分区域并控制各区域曝光时间，使光刻胶层在水平方向上分为完全曝光区、不完全曝光区及未曝光区，所述完全曝光区位于中部，完全曝光区两侧由下至上分别与不完全曝光区内侧面、不完全曝光区上表面及未曝光区相接且界面连续呈阶梯状；控制显影时间使光刻胶层的完全曝光区溶于显影液中并保留不完全曝光区及未曝光区；刻蚀至在介质层上形成多个场板台阶为止。

主权项

1.一种功率器件多场板的制备方法，其特征在于依次按照如下步骤进行：a. 在基片上制备介质层（1）；b. 在介质层（1）上涂布光刻胶层（2）；c. 将光刻胶层（2）逐次划分区域并控制各区域曝光时间，使光刻胶层（2）在水平方向上分为完全曝光区（2.1）、不完全曝光区（2.2）及未曝光区（2.3），所述完全曝光区（2.1）位于中部，完全曝光区（2.1）两侧由下至上分别与不完全曝光区（2.2）内侧面、不完全曝光区（2.2）上表面及未曝光区（2.3）相接且界面连续呈阶梯状；d. 控制显影时间使光刻胶层（2）的完全曝光区（2.1）溶于显影液中并保留不完全曝光区（2.2）及未曝光区（2.3）；e. 刻蚀至在介质层（1）上形成多个场板台阶（3）为止；f. 去除残留的光刻胶层（2）；g. 在多个场板台阶（3）处制备多场板（4）。