[发明专利]一种制备高质量金刚石的气体循环系统及其使用方法有效
申请号: | 201811146959.0 | 申请日: | 2018-09-29 |
公开(公告)号: | CN108914088B | 公开(公告)日: | 2023-07-28 |
发明(设计)人: | 李成明;安康;陈良贤;贾鑫;魏俊俊;张建军;刘金龙 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/503;C23C16/448 |
代理公司: | 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 | 代理人: | 张仲波 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种制备高质量金刚石的气体循环系统及使用方法,属于材料制备领域。气体循环系统包括直流喷射等离子体化学气相沉积系统、气体供给系统、尾气循环系统、气体纯化系统。气体供给系统为两台直流喷射等离子体化学气相沉积装置提供原料气。尾气循环系统可将沉积系统中的尾气抽出,并供给到由氢气提纯仪组成的气体纯化系统,尾气经过提纯之后分离出高纯氢气和含氩、碳元素的混合气,其中高纯氢气供给回沉积装置,含氩、碳尾气作为原料气供给到其中一台沉积装置中沉积热沉级金刚石,另一台沉积装置可以实现高纯气体的供给,沉积光学级金刚石膜。通过上述过程,实现高纯氢气的循环使用,既可满足高质量金刚石膜的制备需求,也可降低制备成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 质量 金刚石 气体 循环系统 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
1.一种制备高质量金刚石的气体循环系统,其特征在于:气体循环系统由直流喷射等离子体化学气相沉积系统、气体供给系统、尾气循环系统、气体纯化系统组成;直流喷射等离子体化学气相沉积系统由两台直流电弧喷射等离子体装置组成,一台直流电弧喷射等离子体装置用于沉积光学级金刚石膜,一台直流电弧喷射等离子体装置用于沉积热沉级金刚石膜;气体供给系统与纯化系统以及直流喷射等离子体化学气相沉积系统相连,负责沉积金刚石过程中的原料气供给;气体纯化系统与气体供给系统、尾气循环系统以及直流喷射等离子体化学气相沉积系统相连;通过气体循环气体能够高沉积速率制备大面积金刚石膜,达到低成本制备高质量金刚石的目的。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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