[发明专利]一种无掩膜极坐标旋转扫描曝光成像装置及其使用方法在审
| 申请号： | 201811148325.9 | 申请日： | 2018-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN108873624A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 陈乃奇 | 申请（专利权）人： | 深圳市先地图像科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区西*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种无掩膜极坐标旋转扫描曝光成像装置及其使用方法，包括底座，所述底座上端安装有安装圆台，安装圆台上端设有环形阵列分布的晶圆，底座上端安装有横梁，横梁上安装有CCD，横梁上端卡设有滑台，滑台侧边设有阵列分布的激光器；在以角速度为θ匀速旋转的安装圆台上放置待光刻的晶圆；利用安装圆台上端设有的定位用的CCD，完成对晶圆的对位；通过CCD采集数据定位晶圆，控制安装圆台的旋转和激光器，完成图像的刻画，即曝光成像。本发明无掩膜极坐标旋转扫描曝光成像装置，晶圆的光刻，取消掩膜版制作环节，直接刻画在晶圆上，图形精度高、质量好、速度快、扫描连续，稳定性高，减少了制作工序，实现成本的优化。 | ||
| 搜索关键词： | 晶圆 上端 圆台 曝光成像装置 旋转扫描 极坐标 横梁 掩膜 底座 激光器 光刻 滑台 刻画 环形阵列分布 采集数据 曝光成像 匀速旋转 阵列分布 上端卡 掩膜版 侧边 对位 制作 扫描 图像 优化 环节 | ||
【主权项】：
1.一种无掩膜极坐标旋转扫描曝光成像装置，包括底座（1），其特征在于，所述底座（1）上端安装有安装圆台（2），安装圆台（2）上端设有环形阵列分布的晶圆（3），底座（1）上端安装有横梁（5），横梁（5）上安装有CCD（4），横梁（5）上端卡设有滑台（6），滑台（6）侧边设有阵列分布的激光器（7）。
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