[发明专利]一种反应均匀的传感器单晶硅刻蚀装置在审
| 申请号： | 201811148646.9 | 申请日： | 2018-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN109449073A | 公开（公告）日： | 2019-03-08 |
| 发明（设计）人： | 张如根 | 申请（专利权）人： | 蚌埠市龙子湖区金力传感器厂 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;C30B33/12 |
| 代理公司： | 安徽力澜律师事务所 34127 | 代理人： | 王际复;吕晓璐 |
| 地址： | 233000 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明是涉及传感器的技术领域，具体是涉及一种反应均匀的传感器单晶硅刻蚀装置，反应室的上端部设置有送气管道，其连接至设置在反应室外部的气源室，反应室的下端部设置有抽气管道，其连接至设置在反应室外部的真空泵；反应室的轴线位置设置有片架，其连接至设置在反应室外部的伺服电机的输出轴；反应室外侧设置有电磁线圈；反应室内壁固定连接有分气盒，分气盒上端固定连接有与分气盒连通的一组进气管，分气盒内壁均匀的开设有出汽孔；分气盒内壁上端固定连接有进气盒，进气盒与送气管道连通，进气盒上固定连接有与进气盒连通的若干组出气管，进气管与一组出气管连通，本发明具有使用方便、提高刻蚀效果等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 分气盒 反应室 进气盒 连通 室外部 传感器 单晶硅 刻蚀装置 上端固定 送气管道 出气管 进气管 内壁 反应室内壁 抽气管道 电磁线圈 刻蚀效果 伺服电机 外侧设置 轴线位置 出汽孔 气源室 上端部 输出轴 下端部 真空泵 片架 | ||
【主权项】：
1.一种反应均匀的传感器单晶硅刻蚀装置，包括有反应室，反应室的上端部设置有送气管道，其连接至设置在反应室外部的气源室，反应室的下端部设置有抽气管道，其连接至设置在反应室外部的真空泵；所述反应室的轴线位置设置有片架，其连接至设置在反应室外部的伺服电机的输出轴；所述反应室外侧设置有电磁线圈；其特征在于：所述反应室内壁固定连接有分气盒，所述分气盒上端固定连接有与分气盒连通的一组进气管，所述分气盒内壁均匀的开设有出汽孔；所述分气盒内壁上端固定连接有进气盒，所述进气盒与送气管道连通，所述进气盒上固定连接有与进气盒连通的若干组出气管，所述进气管与一组出气管连通。
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