[发明专利]一种磁控溅射镀膜生产线在审

专利信息
申请号: 201811156007.7 申请日: 2018-09-30
公开(公告)号: CN108914081A 公开(公告)日: 2018-11-30
发明(设计)人: 崔明培;余力;韩金保;龙甫强;苏龙庆;邝耀庭;刘思敏 申请(专利权)人: 佛山市钜仕泰粉末冶金有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/56;C23C14/54
代理公司: 深圳市精英专利事务所 44242 代理人: 冯筠
地址: 528244 广东省佛山市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种磁控溅射镀膜生产线,包括进片室,设于进片室出料端的进片缓冲室,设于进片缓冲室出料端的进片过渡室,设于进片过渡室出料端的镀膜室,设于镀膜室出料端的出片过渡室,设于出片过渡室出料端的出片缓冲室,及设于出片缓冲室出料端的出片室;所述镀膜室为若干个,且镀膜室内设置有若个干阴极旋转靶位、直流平面靶位。本发明的提供的磁控溅射镀膜生产线,可生产出具有良好的隔热、节能和耐候性能,可同时满足红外线高吸收/反射率,可见光高透过,紫外线高阻隔的产品,也可以生产建筑节能改造玻璃。
搜索关键词: 出料 过渡室 缓冲室 出片 进片 磁控溅射镀膜 镀膜室 进片室 建筑节能改造 阴极 可见光 耐候性能 出片室 反射率 高阻隔 平面靶 旋转靶 红外线 隔热 紫外线 镀膜 节能 室内 玻璃 生产 吸收
【主权项】:
1.一种磁控溅射镀膜生产线,其特征在于,包括进片室,设于进片室出料端的进片缓冲室,设于进片缓冲室出料端的进片过渡室,设于进片过渡室出料端的镀膜室,设于镀膜室出料端的出片过渡室,设于出片过渡室出料端的出片缓冲室,及设于出片缓冲室出料端的出片室;所述镀膜室为若干个,且镀膜室内设置有若个干阴极旋转靶位、直流平面靶位。
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