[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201811156775.2 | 申请日: | 2018-09-30 |
公开(公告)号: | CN109301085B | 公开(公告)日: | 2020-11-27 |
发明(设计)人: | 张子予 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L27/32;H01L21/77 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 刘伟;胡影 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种显示基板及其制作方法、显示装置,该显示基板的制作方法包括:提供衬底基板,衬底基板包括显示区和位于显示区内部的内非显示区,内非显示区包括:位于内非显示区中部的开孔区和位于开孔区外围的保留区;在内非显示区内形成掩膜图形,掩膜图形覆盖开孔区的全部区域和保留区的至少部分区域;在衬底基板上形成蒸镀材料层,所蒸镀材料层被掩膜图形分割成形成在掩膜图形上的第一部分,和,形成在其他区域的第二部分;对掩膜图形进行处理,使得第二部分的边界与开孔区的边界之间的至少部分保留区不被掩膜图形覆盖;在衬底基板上形成薄膜封装层。本发明可保证开孔区周围的蒸镀材料层被完整封装,阻止水氧侵蚀,提高封装的信赖性。 | ||
搜索关键词: | 一种 显示 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:提供一衬底基板,所述衬底基板包括显示区和位于所述显示区内部的至少一个内非显示区,所述内非显示区包括:位于所述内非显示区中部的开孔区和位于所述开孔区外围的保留区;在所述内非显示区内形成掩膜图形,所述掩膜图形覆盖所述开孔区的全部区域和所述保留区的至少部分区域;在所述衬底基板上形成至少一层蒸镀材料层,所述蒸镀材料层被所述掩膜图形分割成形成在所述掩膜图形上的第一部分蒸镀材料层,和,形成在其他区域的第二部分蒸镀材料层;对所述掩膜图形进行处理,使得所述第二部分蒸镀材料层的边界与所述开孔区的边界之间的至少部分所述保留区不被所述掩膜图形覆盖;在所述衬底基板上形成薄膜封装层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811156775.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:封装结构、电子装置及封装方法
- 下一篇:一种显示基板及其制作方法、显示装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择