[发明专利]液体喷射装置和液体喷射头有效

专利信息
申请号: 201811157533.5 申请日: 2018-09-28
公开(公告)号: CN109572221B 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 山田和弘;中村阳平;中川喜幸;锅岛直纯 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: B41J2/175 分类号: B41J2/175;B41J2/21;B41J2/14;B41J29/393
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 贾金岩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种液体喷射装置,包括:喷射液体的喷射口;储存液体的压力室;产生用于喷射压力室中的液体的能量的元件;可以储存液体的第一罐和第二罐;通过压力室在第一罐和第二罐之间建立连通的流动通路;在从第一罐流动到第二罐的第一方向和从第二罐流动到第一罐的第二方向之间切换液体在流动通路中的流动方向的切换单元;及压力补偿单元。当压力室下游的下游侧流动通路部分中的压力具有预定压力或更低时,压力补偿单元通过将液体供应到下游侧流动通路部分来补偿下游侧流动通路部分中的压力降低。还涉及一种液体喷射头。
搜索关键词: 液体 喷射 装置
【主权项】:
1.一种液体喷射装置,包括:喷射口,其配置成喷射液体;压力室,其配置成存储待从喷射口喷射的液体;元件,其配置成产生用于喷射压力室中的液体的能量;第一罐和第二罐,其均配置成能够储存液体;流动通路,其配置成通过压力室在第一罐和第二罐之间建立连通;切换单元,其配置成在从第一罐流动到第二罐的第一方向与从第二罐流动到第一罐的第二方向之间切换液体在流动通路中的流动方向;以及压力补偿单元,其配置成当在液体的流动方向上位于压力室的下游侧上的流动通路的下游侧流动通路部分中的压力是预定压力或更低时,通过将液体供应到下游侧流动通路部分来补偿下游侧流动通路部分中的压力降低。
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