[发明专利]蚀刻机有效
| 申请号： | 201811169718.8 | 申请日： | 2018-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN109473333B | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 温彦跃 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请提出了一种蚀刻机，所述蚀刻机包括蚀刻槽。所述蚀刻槽包括第一电极板；与所述第一电极板相对设置的第二电极板；围绕所述第一电极板及所述第二电极板外围设置的隔离板；以及设置于部分所述隔离板上的绝缘材料。本申请通过在部分隔离板上设置绝缘材料，提高局部区域的绝缘性，并利用高绝缘性降低所述蚀刻槽等离子体密度较高的区域，提高蚀刻机蚀刻速率的均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻机，包括蚀刻槽，其特征在于，所述蚀刻槽包括：第一电极板；与所述第一电极板相对设置的第二电极板；围绕所述第一电极板及所述第二电极板外围设置的隔离板；以及设置于部分所述隔离板上的绝缘材料。
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