[发明专利]脉冲激光沉积系统及其薄膜制备方法在审
| 申请号： | 201811172619.5 | 申请日： | 2018-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN109487219A | 公开（公告）日： | 2019-03-19 |
| 发明（设计）人： | 胡凯;代瑞娜;张晓军;陈志强;方安安;姜鹭;潘恒;王岩;王峻岭 | 申请（专利权）人： | 深圳市矩阵多元科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28;C23C14/50;C23C14/54 |
| 代理公司： | 深圳市华优知识产权代理事务所(普通合伙) 44319 | 代理人： | 余薇 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区西*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及薄膜制造技术领域，尤其涉及一种脉冲激光沉积系统及其薄膜制备方法。所述脉冲激光沉积系统包括激光器、真空腔、基片加热台、抽真空设备和气氛气体通入设备，还包括靶材挡板、厚度测试模块、薄膜参数测试模块和计算机设备，所述计算机设备用于设置薄膜制备参数并对应控制薄膜制备环境、以及根据所述厚度测试模块测试的薄膜的沉积速率和所述薄膜参数测试模块测试的已沉积薄膜的参数数据调整薄膜的制备参数。通过控制基片加热台和靶材转盘转动而切换基片和靶材，并根据测试的薄膜沉积速率和已沉积薄膜的参数数据调整优化膜的制备参数，降低了薄膜制备的时间和成本，提升了薄膜制备的工作效率和控制便捷性。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜制备 脉冲激光沉积系统 靶材 计算机设备 薄膜参数 参数数据 测试模块 沉积薄膜 厚度测试 加热台 速率和 制备 薄膜 薄膜制造技术 抽真空设备 测试 薄膜沉积 工作效率 模块测试 气氛气体 转盘转动 挡板 激光器 便捷性 真空腔 沉积 优化 | ||
【主权项】：
1.一种脉冲激光沉积系统，包括激光器、真空腔、基片加热台、抽真空设备和气氛气体通入设备，其特征在于，还包括靶材挡板、厚度测试模块、薄膜参数测试模块和计算机设备，所述靶材挡板设置在所述基片加热台正下方，所述靶材挡板设置有可正对靶材的靶材孔，所述计算机设备用于设置薄膜制备参数并对应控制薄膜制备环境、以及根据所述厚度测试模块测试的薄膜的沉积速率和所述薄膜参数测试模块测试的已沉积薄膜的参数数据调整薄膜的制备参数。
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