[发明专利]光刻胶图案的形成方法在审
| 申请号： | 201811173309.5 | 申请日： | 2018-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN109782540A | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 訾安仁;郑雅如;张庆裕;林进祥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 向勇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光刻胶图案的形成方法，包括在形成于基底上的光刻胶层上形成保护层，且将光刻胶层选择性地曝光于光化辐射。将光刻胶层显影，以在光刻胶层中形成图案，以及去除保护层。保护层包含具有多个氟碳侧基的聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻胶层 保护层 光刻胶图案 光化辐射 聚合物 侧基 氟碳 基底 显影 去除 图案 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶图案的形成方法，包括：在形成于一基底上的一光刻胶层上形成一保护层；将该光刻胶层选择性地曝光于光化辐射；将该光刻胶层显影，以在该光刻胶层中形成一图案；以及去除该保护层，其中该保护层包含具有多个氟碳侧基的一聚合物。
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