[发明专利]图案测量装置以及测量方法有效
| 申请号： | 201811177849.0 | 申请日： | 2018-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN109765254B | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 孙伟;早田康成;二宫拓;后藤泰范 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | G01N23/2251 | 分类号： | G01N23/2251;H01J37/28 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 范胜杰;王立杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种图案测量装置以及测量方法，不管深槽、深孔的形成精度如何，均能够高精度地测量深度以及测量立体形状。因此，在本发明的测量装置中，检测通过照射产生的来自图案的反射电子，将来自上述图案的上表面、底面和侧壁的反射电子信号强度进行比较，根据上述上表面和下表面的高度差，计算上述侧壁的立体形状(或高度信息)。将上述计算出的上述侧壁的立体形状与根据初级电子束的强度分布(开口角度)推定出的侧壁的立体形状进行比较，根据上述比较差，校正推定出的侧壁的立体形状，进行上述校正直到比较差达到允许值为止。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 测量 装置 以及 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种测量装置，测定形成于试样上的图案尺寸，其特征在于，具有：照射光学系统，其对上述图案扫描并照射带电粒子束；检测器，其检测通过上述照射产生的来自图案的反射电子；信号强度比较部，其将来自上述图案的上表面、下表面以及侧壁的反射电子的信号强度进行比较；以及高度计算部，其根据上述比较的结果以及上述上表面和上述下表面的高度差来计算上述侧壁上的任意位置的高度。
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