[发明专利]一种双涂覆层弱光纤光栅阵列及其制备方法在审
| 申请号： | 201811184851.0 | 申请日： | 2018-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN109085675A | 公开（公告）日： | 2018-12-25 |
| 发明（设计）人： | 罗志会;张宇;王万蓉 | 申请（专利权）人： | 宜昌睿传光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02;G02B6/44 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 吴思高 |
| 地址： | 443002 湖北省宜昌市中*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 一种双涂覆层弱光纤光栅阵列及制备方法，包括纤芯、刻写在纤芯上的弱光栅阵列，纤芯外的包层，包层外采用汽相沉积工艺制备的TiO2层，TiO2层外二次涂覆高分子材料。一种双涂覆层弱光纤光栅阵列的制备方法，利用拉丝塔对预制棒拉丝形成纤芯和包层，然后采用外部气相沉积工艺在裸光纤表面形成TiO2薄膜，再采用相位掩模板单脉冲工艺刻写弱光栅阵列，最后对刻写的光栅进行二次涂覆。本发明的光纤光栅阵列结构简单，抗弯曲、抗疲劳、抗腐蚀性好，性价比高，刻写方式灵活，可用于恶劣环境以及长期应变监测的场合，具有很好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 刻写 纤芯 弱光纤光栅 涂覆层 包层 制备 二次涂覆 光栅阵列 光纤光栅阵列 外部气相沉积 高分子材料 裸光纤表面 相位掩模板 光栅 恶劣环境 工艺制备 应变监测 单脉冲 抗疲劳 抗弯曲 拉丝塔 预制棒 沉积 可用 拉丝 灵活 应用 | ||
【主权项】：
1.一种双涂覆层弱光栅阵列，其特征在于，包括纤芯(2)、刻写在纤芯(2)上的弱光光栅阵列(1)、纤芯(2)外的包层(3)，包层(3)外涂覆TiO2层(4)，TiO2层(4)外涂覆高分子材料层(5)。
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