[发明专利]一种阵列基板及其制造方法和一种液晶显示面板

摘要

本发明涉及显示领域，尤其涉及液晶显示器，具体涉及阵列基板的制造方法，该阵列基板的制造方法通过在现有技术中的去光阻和利用CVD设备进行化学气相沉积这两个步骤之间对玻璃基板上的图案化的金属线进行氧化处理来改善带有弧形的交叉金属结构产生的漏光现象，此方法直接利用CVD设备对金属进行氧化，在具备较快的氧化速度的同时也不会改变正常的阵列制程顺序，因此，上述液晶显示器的制造方法不仅能改善漏光的问题从而提高液晶面板对比度，而且也能保证液晶面板的生产效率及产能。

主权项

1.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：S101、镀膜，即在玻璃基板的表面镀上一层膜；S102、上光阻，即在所述膜的表面涂上一层光阻液；S103、曝光，即对所述涂有光阻液的玻璃基板进行选择性曝光；S104、显影，即溶解曝光的所述光阻；S105、蚀刻，即蚀刻所述玻璃基板表面的无光阻覆盖的所述膜形成图案化的金属线；S106、氧化，即至少在图案化的所述金属线的侧面通过氧化反应形成金属氧化物。