[发明专利]一种基于太赫兹脉冲频谱与最优化算法的涂层厚度测量方法有效
申请号: | 201811197783.1 | 申请日: | 2018-10-15 |
公开(公告)号: | CN109186475B | 公开(公告)日: | 2019-12-06 |
发明(设计)人: | 何明霞;张洪桢;石粒力;王璞 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
代理公司: | 12201 天津市北洋有限责任专利代理事务所 | 代理人: | 程毓英<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于太赫兹脉冲频谱与最优化算法的涂层厚度测量方法,包括:用太赫兹时域光谱系统获得空载状态下的参考信号和涂层样品测量信号;用EEMD算法对输入两类信号进行降噪处理,对分解结果进行信号重建,获得重建后的测量信号和参考信号;设定初始参数,包括涂层样品类型、初始误差;用最优化算法求解拟合信号;输出拟合结果,通过消去拟合信号中多余的反射信号获得待求信号。 | ||
搜索关键词: | 最优化算法 拟合 涂层厚度测量 太赫兹脉冲 测量信号 涂层样品 频谱 太赫兹时域光谱系统 初始参数 反射信号 降噪处理 空载状态 信号重建 求解 算法 消去 分解 输出 重建 | ||
【主权项】:
1.一种基于太赫兹脉冲频谱与最优化算法的涂层厚度测量方法,包括以下步骤:/nS1:用太赫兹时域光谱系统获得空载状态下的参考信号Eref(t)和涂层样品测量信号Emea(t);/nS2:将参考信号Eref(t)和涂层样品的测量信号Emea(t)输入计算机;/nS3:用EEMD算法对输入两类信号进行降噪处理,得到测量信号Emea(t)和参考信号Eref(t)的EEMD分解结果,对分解结果进行信号重建,获得重建后的测量信号和参考信号,分别记作Eeemd-mea(t)和Eeemd-ref(t);/nS4:设定初始参数,包括涂层样品类型和初始误差;/nS5:用最优化算法求解拟合信号,方法如下:/nS5.1:对待求信号Eobj(t)进行建模;/nEobj(t)=E1(t)+E2(t)=k1Eeemd-ref(t+Δt1)+k2Eeemd-ref(t+Δt2)/nE1(t)=k1Eeemd-ref(t+Δt1)/nE2(t)=k2Eeemd-ref(t+Δt2)/nE1(t)为由涂层表层反射的反射信号,为第一级反射信号,E2(t)为由基底第一次反射所得的反射信号,为第二级反射信号,k1、k2为根据菲涅尔定律与介质对太赫兹信号吸收性所确定的系数,Δt1、Δt2为反射信号E1(t)、E2(t)对应的飞行时间,规定Δt2>Δt1;/nS5.2:对太赫兹脉冲信号在样品内的多重反射效应进行建模;/n当信号发生多重反射时,各个反射信号之间的飞行时间差为定值dt=Δt2-Δt1,则:/nE3(t)=k3Eeemd-ref(t+Δt2+dt),E4(t)=k4Eeemd-ref(t+Δt2+2×dt),/n其中,E3(t)、E4(t)为由涂层基底第二次、第三次反射回来的太赫兹波,分别是第三级、四级反射信号,与k1、k2同理可得系数k3、k4,因此,第i级多重反射信号为:/nEi(t)=kiEeemd-ref(t+Δt2+(i-2)×dt),/n其中i>2,对Ei求和,得到包含所有多重反射信号的总拟合信号:/n /nS5.3:令误差函数Y达到最小值,获取最优拟合信号Ebest-sim(t);/n误差函数Y定义为:/n /n将误差函数Y作为最优化算法的目标函数,在每一次循环中,向总拟合信号Esim(t)中加入反射信号Ei(t),其中i>2,使Esim(t)更接近获取的测量信号Eeemd-mea(t),从而降低误差函数Y的值,直至Y值的减少小于预设的一个小正数,获得与测量信号Eeemd-mea(t)相比误差最小的最优拟合信号 参数ki、Δt1、Δt2以及引入的反射信号级数n;/nS6:输出拟合结果,通过消去拟合信号中多余的反射信号获得待求信号 计算涂层厚度;/nS6.1:消除多重反射信号的混叠,获取待求信号 /nS6.2:计算涂层厚度d。/n
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