[发明专利]考虑滤膜形变的β射线衰减法颗粒物浓度监测方法及系统有效

专利信息
申请号: 201811197998.3 申请日: 2018-10-15
公开(公告)号: CN109238934B 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 王杰;贺振怀;李德文;刘国庆;龚小兵;赵政;惠立锋;巫亮;焦敏;王宇廷 申请(专利权)人: 中煤科工集团重庆研究院有限公司
主分类号: G01N15/06 分类号: G01N15/06
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 赵荣之
地址: 400039 重*** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种考虑滤膜形变的β射线衰减法颗粒物浓度监测方法及系统,该系统包括β射线衰减法颗粒物浓度测试仪、处理器和摄像机,摄像机拍摄滤膜发生变形后的图像并传输给处理器,处理器对滤膜进行采样点划分并获取采样点处的厚度并计算采样后滤膜的质量,处理器依据本发明的方法计算得到颗粒物浓度。本发明的监测系统结构简单,消除了滤膜发生形变而造成的测量误差,提高了测量结果的准确性。
搜索关键词: 考虑 滤膜 形变 射线 衰减 颗粒 浓度 监测 方法 系统
【主权项】:
1.一种考虑滤膜形变的β射线衰减法颗粒物浓度监测方法,其特征在于,包括如下步骤:S1,采集β射线衰减法颗粒物浓度测试仪测试前的厚度,以及测试后不同位置的滤膜测试厚度与真实厚度的夹角,获得测试后滤膜发生变形后的采样厚度,其中,L1为测试前滤膜的厚度,L2i为测试后滤膜发生变形后的采样厚度,i为采样点,将测试后的滤膜分割为n个采样点,n为正整数,i为正整数且1≤i≤n,L1/L2i=cosθi,θi为采样点i处测试厚度与真实厚度的夹角;S2,假设放射源初始射线强度I0保持不变,测量采样前后的β射线穿过滤膜后的强度I1、I2,利用L1、L2i得到:其中,I'2i为滤膜发生变形后β射线穿过介质后的采样点i处的射线强度,I1为测量采样前的β射线穿过滤膜后的强度,μm为被测物质的质量吸收系数,ρ为被测物质的密度;S3,计算测量采样后的β射线穿过滤膜后的强度I2,S4,根据获得的滤膜厚度或滤膜质量计算厚度影响因子ε,采样前后滤膜增量公式为:其中,m1为采样前滤膜的质量、m2为采样后滤膜与颗粒物质量之和,s为被测区域面积;S5,计算得到颗粒物浓度:所述V为采样流量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中煤科工集团重庆研究院有限公司,未经中煤科工集团重庆研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811197998.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top