[发明专利]一种基于局部平面的任意曲面共形阵列建模方法有效
| 申请号： | 201811199726.7 | 申请日： | 2018-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN109325306B | 公开（公告）日： | 2022-11-25 |
| 发明（设计）人： | 朱庆超;张小林;方佳;苗菁;张琪春;金谋平 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第三十八研究所 |
| 主分类号： | G06F30/23 | 分类号： | G06F30/23;G06F30/20 |
| 代理公司： | 合肥昊晟德专利代理事务所(普通合伙) 34153 | 代理人： | 顾炜烨 |
| 地址： | 230000 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基于局部平面的任意曲面共形阵列建模方法，包括步骤：在选定的反射曲面上依据阵元模型优化获得各阵元的尺寸，所述阵元均共形于所述反射曲面；对所述反射曲面剖分网格，每个所述网格的两维尺寸与平面阵元间距对应设置；以任一所述阵元作为原点建立基础坐标系，获得所述反射曲面上各所述网格的网格信息；对应各所述网格的中心处建立方形平台，所述平台与所述反射曲面结合为一体；对位于原点处的所述阵元进行旋转操作和平移操作；在所述基础坐标系内，对每个所述阵元进行所述旋转操作和所述平移操作，获得整个共形阵列；本发明显著提高曲面阵列建模的效率，在大幅度减少阵元排布时间的同时也提高了建模的精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 局部 平面 任意 曲面 阵列 建模 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于局部平面的任意曲面共形阵列建模方法，其特征在于，包括步骤；S1，在选定的反射曲面上依据阵元模型优化获得各阵元的尺寸，所述阵元均共形于所述反射曲面；S2，对所述反射曲面剖分网格，每个所述网格的两维尺寸与平面阵元间距对应设置；S3，以任一所述阵元作为原点建立基础坐标系，获得所述反射曲面上各所述网格的网格信息；S4，对应各所述网格的中心处建立方形平台，所述平台与所述反射曲面结合为一体；S5，对位于原点处的所述阵元进行旋转操作和平移操作；S6，在所述基础坐标系内，对每个所述阵元进行所述旋转操作和所述平移操作，获得整个共形阵列。
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