[发明专利]显示面板、等离子体蚀刻方法以及系统在审
| 申请号： | 201811203968.9 | 申请日： | 2018-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN109461743A | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 张朋宾 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/12 | 分类号： | H01L27/12;H01L21/77;H01L21/67;H01J37/32 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种显示面板、等离子体蚀刻方法以及系统，在利用含氯气体对所述基板上的金属膜层进行第一等离子体蚀刻以形成导电线路的图案化处理之后，在真空条件下将第一等离子体蚀刻后的基板搬入第二等离子体蚀刻装置的处理容器内，利用含氧气体和含氢氟气体的等离子体进行用于抑制腐蚀的后处理；这样将金属膜层表面的AlClX替换为AlFX，因为AlFX不会与空气中的水分和氧气产生化学反应，进而就不会对Al层产生腐蚀，解决了现有等离子体蚀刻技术存在Al层腐蚀的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体蚀刻 显示面板 腐蚀 基板 等离子体蚀刻装置 等离子体 金属膜层表面 化学反应 图案化处理 后处理 处理容器 导电线路 含氯气体 含氧气体 金属膜层 氧气产生 真空条件 搬入 氢氟 替换 | ||
【主权项】：
1.一种显示面板，其特征在于，包括：基板；金属膜层，形成于所述基板上；所述金属膜层包括至少一层铝层；其中，至少一层铝层被离子体蚀刻所形成的蚀刻表面覆盖有含铝离子晶体。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
