[发明专利]一种改善敏感光刻胶形貌的复合型掩模版及其制作方法

摘要

本发明提供一种改善敏感光刻胶形貌的复合型掩模版及其制作方法，属于光刻掩膜版的制作及应用技术领域，包括：提供一预处理结构，预处理结构包括石英层、MoSi层、Gr层；于预处理结构上涂覆光刻胶层，根据预设曝光形状对光刻胶层进行曝光形成窗口；以光刻胶层为掩膜对Gr层和MoSi层进行刻蚀，以得到预处理复合型掩膜版；去除预处理复合型掩膜版中的光刻胶层，以得到复合型掩膜版。本发明的有益效果：通过设计复合型掩模版，既保留了双极型掩模版暗区遮光好的优势，又采用强度衰减相掩模版来形成更陡峭的光强变化，优势互补，通过使用复合型掩膜版能够成功解决敏感光刻胶形貌问题，得到更直的光阻形貌，改善了对光敏感的光阻形貌。

主权项

1.一种改善敏感光刻胶形貌的复合型掩模版，其特征在于，包括：石英层；多个复合结构，每个所述复合结构分别设置于所述石英层上；所述复合结构包括：MoSi层，所述MoSi层设置于所述的上表面；Gr层，所述Gr层设置于所述MoSi层的上表面。