[发明专利]一种磁屏蔽桶内高均匀磁场与梯度复合磁场产生方法有效

专利信息
申请号: 201811205846.3 申请日: 2018-10-17
公开(公告)号: CN111060858B 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 秦杰;刘栋苏;万双爱;王春娥 申请(专利权)人: 北京自动化控制设备研究所
主分类号: G01R33/38 分类号: G01R33/38;G01R33/385
代理公司: 核工业专利中心 11007 代理人: 孙成林
地址: 100074 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种磁屏蔽桶内高均匀磁场与梯度复合磁场产生方法,它包括如下步骤:第一步,通过改进的Helmholtz线圈产生Z均匀磁场;第二步,通过马鞍形线圈产生X、Y方向均匀磁场;第三步,通过马鞍形梯度线圈产生一阶梯度磁场;第四步,通过同轴圆环线圈产生一阶梯度磁场线圈第五步,通过同轴圆环线圈产生二阶梯度磁场线圈本发明的有益效果在于:本发明提出了一种磁屏蔽桶内高均匀磁场与梯度复合磁场产生方法,其主要优势在于可以分别提供不同方向的均匀磁场、一阶梯度磁场和二阶梯度磁场,为原子操控提供不同磁场环境。
搜索关键词: 一种 屏蔽 桶内高 均匀 磁场 梯度 复合 产生 方法
【主权项】:
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