[发明专利]一种蚀刻设备有效
| 申请号： | 201811206078.3 | 申请日： | 2018-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN109369028B | 公开（公告）日： | 2021-11-23 |
| 发明（设计）人： | 李树群 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供一种蚀刻设备，包括：腔室，以及设置在腔室内的反应台和至少一个装载底座；其中，装载底座设置在反应台上，装载底座上设置有多个凹槽，且凹槽为圆弧形凹槽。通过在装载底座上设置多个圆弧形凹槽，解决了面板在刻蚀过程中出现跳片的技术问题，不仅提高了面板刻蚀的均匀性，还提高了面板的产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蚀刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻设备，其特征在于，包括：腔室，以及设置在所述腔室内的反应台和至少一个装载底座；其中，所述装载底座设置在所述反应台上，所述装载底座上设置有多个凹槽，且所述凹槽为圆弧形凹槽。
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