[发明专利]光刻系统及清洁光刻系统的方法有效
| 申请号： | 201811209082.5 | 申请日： | 2018-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN111061129B | 公开（公告）日： | 2022-11-01 |
| 发明（设计）人： | 傅中其;黄郁茹;郑介任;郭爵旗 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 黄艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开部分实施例提供一种清洁光刻系统的方法。上述方法包括放置一光学元件至一光罩座。上述方法还包括自一光源产生一光束，并利用一第一光导件导引光束至光学元件，使光束在光学元件的一反射面的一有效区域反射并射入一第二光导件。反射面上的有效区域占反射面的比例约介于60％至100％之间。上述方法也包括供应一清洁气体至第二光导件周围，并将清洁气体自第二光导件周围抽除。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 系统 清洁 方法 | ||
【主权项】：
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