[发明专利]一种曝光评估值的统计方法及成像设备有效
| 申请号： | 201811209245.X | 申请日： | 2018-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN111064897B | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 刘淼 | 申请（专利权）人： | 北京图森智途科技有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/235 | 分类号： | H04N5/235;H04N17/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 101300 北京市顺*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种曝光评估值的统计方法及成像设备，涉及图像处理技术领域。方法包括：将待处理图像划分为多行多列区块；根据区块的列数设置各列区块对应的寄存器和第一除法器；对每一行区块中的像素点的亮度数据进行如下处理：将一行区块中的像素点的亮度数据累计到对应的各寄存器中，在一行区块中的像素点的亮度数据累计完成后，根据各第一除法器计算各区块的亮度均值，并写入到预先设置的一第一随机存取存储器中，并清空所述各寄存器；直至各行区块中的像素点的亮度数据进行累计和计算亮度均值处理完成；根据各区块的亮度均值和预先设置的每个区块对应的权重系数，通过一第二除法器加权平均计算得到待处理图像的曝光评估值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 评估 统计 方法 成像 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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