[发明专利]阴极电磁场装置及镀膜设备在审
申请号: | 201811211285.8 | 申请日: | 2018-10-17 |
公开(公告)号: | CN109306456A | 公开(公告)日: | 2019-02-05 |
发明(设计)人: | 周敏;王文宝;朱岩;李军旗 | 申请(专利权)人: | 深圳精匠云创科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/35 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 习冬梅;薛晓伟 |
地址: | 518109 广东省深圳市龙华区龙华街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种阴极电磁场装置,用于镀膜设备,镀膜设备包括相对设置的待镀基底和靶材,定义靶材靠近待镀基底的表面为靶面,阴极电磁场装置包括设置于靶材远离待镀基底的一侧的多个第一电磁线圈,各第一电磁线圈的磁极方向不垂直于靶材远离待镀基底的表面,多个第一电磁线圈在靶面耦合出两个磁力线方向相反的拱形磁场。还提供应用上述阴极电磁场装置的镀膜设备。该阴极电磁场装置及镀膜设备,通过设置磁极方向不垂直于靶材远离待镀基底的表面的多个第一电磁线圈,可构筑出更平缓的拱形磁场,有利于提高靶材利用率。 | ||
搜索关键词: | 阴极 电磁场装置 镀膜设备 靶材 镀基 电磁线圈 磁极方向 不垂直 拱形 靶面 磁场 靶材利用率 磁力线方向 相对设置 耦合 构筑 应用 | ||
【主权项】:
1.一种阴极电磁场装置,用于镀膜设备,所述镀膜设备包括相对设置的待镀基底和靶材,定义所述靶材靠近所述待镀基底的表面为靶面,其特征在于,所述阴极电磁场装置包括设置于所述靶材远离所述待镀基底的一侧的多个第一电磁线圈,各所述第一电磁线圈的磁极方向不垂直于所述靶材远离所述待镀基底的表面,多个所述第一电磁线圈在所述靶面耦合出两个磁力线方向相反的拱形磁场。
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